鹽霧試驗(yàn)是一種主要利用鹽霧試驗(yàn)設(shè)備所創(chuàng)造的人工模擬鹽霧環(huán)境條件來考核產(chǎn)品或金屬材料耐腐蝕性能的環(huán)境試驗(yàn)，它與天然環(huán)境相比，其鹽霧環(huán)境的氯化物的鹽濃度，可以是一般天然環(huán)境鹽霧含量的幾倍或幾十倍，使腐蝕速度大大提高，對產(chǎn)品進(jìn)行鹽霧試驗(yàn)，得出結(jié)果的時(shí)間也大大縮短。鹽鹽霧試驗(yàn)方法有：中性鹽霧（NSS）試驗(yàn)、醋酸鹽霧（ASS）試驗(yàn)、銅加速的醋酸鹽霧（CASS）試驗(yàn)等。

       點(diǎn)腐蝕簡稱點(diǎn)蝕，又叫小孔腐蝕或空蝕，是一種腐蝕集中于金屬表面的很小范圍內(nèi)，并深入到金屬內(nèi)部的蝕孔狀腐蝕形態(tài)，一般是直徑小而深。蝕孔的最大深度和金屬腐蝕深度的比值，稱為點(diǎn)蝕系數(shù)。點(diǎn)腐蝕系數(shù)越大表示點(diǎn)蝕越嚴(yán)重。具有自鈍化特征的金屬（合金），如不銹鋼、鋁和鋁合金、鈦和鈦合金等在含氯離子的介質(zhì)中，經(jīng)常發(fā)生點(diǎn)蝕。碳鋼在表面的氧化皮或銹層有孔隙的情況下，在含氯離子的水中亦會出現(xiàn)點(diǎn)蝕的現(xiàn)象。
       點(diǎn)蝕發(fā)生的主要條件：
      （1）點(diǎn)蝕多發(fā)生與表面產(chǎn)生鈍化膜的金屬材料上或表面有陰極性鍍層的金屬上。當(dāng)這些膜上某點(diǎn)發(fā)生破壞，破壞區(qū)下的金屬基體與膜未破壞區(qū)形成活化-鈍化腐蝕電池，鈍化表面為陰極而且面積比活化區(qū)大很多，腐蝕就向深處發(fā)展而形成小孔。
      （2）點(diǎn)蝕發(fā)生于有特殊離子的介質(zhì)中，如不銹鋼對含有鹵素離子特別敏感，其作用順序?yàn)镃l->Br->I-.這些陰離子在合金表面不均勻吸附導(dǎo)致膜的不均勻破壞。
      （3）點(diǎn)蝕發(fā)生在某一臨界電位以上，該電位成為點(diǎn)蝕電位，用Eb表示。如圖1所示。如把極化曲線回掃，又到達(dá)鈍態(tài)電流所對應(yīng)的電位Ep,稱再鈍化電位或叫保護(hù)電位。大于Eb值，點(diǎn)蝕迅速發(fā)生、發(fā)展；Eb~Ep之間，已發(fā)生的蝕孔繼續(xù)發(fā)展，但不產(chǎn)生新的蝕孔；小于Ep值，點(diǎn)蝕不發(fā)生。所以Eb值越高，表征材料耐點(diǎn)蝕性能越好。Ep與Eb值越接近，說明鈍化膜修復(fù)能力愈強(qiáng)。

       圖2   動電位測量陽極極化曲線模式圖
 

       影響點(diǎn)蝕的因素：（1）環(huán)境因素。某些材料在特定的介質(zhì)中易發(fā)生點(diǎn)蝕，如不銹鋼易在含鹵族元素陰離子Cl^-、Br^-、I^-中發(fā)生，而銅則對硫酸根更敏感。當(dāng)溶液中具有FeCl₃、CuCl₂為代表的二價(jià)以上重金屬氯化物時(shí)，由于金屬離子強(qiáng)烈的還原作用，將大大促進(jìn)點(diǎn)蝕的形成和發(fā)展。介質(zhì)濃度也會影響點(diǎn)蝕的形成及發(fā)展。（2）介質(zhì)溫度升高，對不銹鋼來說點(diǎn)蝕電位降低，點(diǎn)蝕加劇。（3）溶液pH及介質(zhì)的流動速度也會對點(diǎn)蝕產(chǎn)生影響。一般流速增大，點(diǎn)蝕傾向降低，對不銹鋼而言，有利于減少點(diǎn)蝕的流速為1m/s左右。
       防止點(diǎn)蝕的措施：
     （1）改善介質(zhì)條件，如降低溶液中氯離子含量，減少氧化劑，降低溫度，提高pH等皆可減少點(diǎn)蝕的發(fā)生；
     （2）選用耐點(diǎn)蝕的合金材料；
     （3）采用陰極保護(hù)，陰極極化使電位低于E_b,最可靠是低于E_p使不銹鋼處于穩(wěn)定鈍化區(qū)；
     （4）對合金進(jìn)行表面鈍化，提高材料鈍態(tài)穩(wěn)定性；
     （5）使用緩蝕劑。