解讀電子封裝無鉛化及晶圓凸點(diǎn)電鍍技術(shù)應(yīng)用
2015-05-07 13:21:30
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無鉛化挑戰(zhàn)組裝和封裝材料
鉛的毒性已經(jīng)廣為人知,人們雖然仍在爭(zhēng)論電子元件中的鉛是否真的對(duì)人類和環(huán)境造成威脅,但人們已經(jīng)更為關(guān)注廢棄的電子器件垃圾中鉛的滲透并產(chǎn)生的污染。大多數(shù)歐洲聯(lián)盟成員國(guó),已經(jīng)在執(zhí)行禁止在電子器件中使用鉛的法律。歐盟關(guān)于鉛等危險(xiǎn)物的限制原則是盡量替換鉛,只有在“技術(shù)上無法替換”時(shí)才可以使用鉛。歐聯(lián)的無鉛法律將影響全球的電子產(chǎn)業(yè),一來是由于供應(yīng)鏈的全球化,再者也是由于在其它國(guó)家已經(jīng)開始有類似的法律。為了實(shí)現(xiàn)無鉛化,人們需要對(duì)倒裝芯片封裝、晶圓級(jí)封裝、SMT和波峰焊進(jìn)行廣泛的材料研究和工藝評(píng)價(jià),需要為板上倒裝芯片和芯片級(jí)封裝技術(shù)研究合適的材料和工藝。

鏤板印刷制作凸點(diǎn)
用鏤板印刷或電鍍制作的晶圓凸點(diǎn),顯示了無鉛在倒裝芯片和芯片級(jí)封裝和組裝領(lǐng)域的可行性。在凸點(diǎn)制備工藝中,需要給凸點(diǎn)底層金屬(UBM)覆蓋上新的焊材。印刷工藝之后,要在高于焊料熔點(diǎn)20℃的溫度下進(jìn)行回流,然后再進(jìn)行清洗和凸點(diǎn)檢查。UBM必須與新的焊料相匹配,采用化學(xué)鍍鎳工藝。晶圓加工是在一序列的化學(xué)池中進(jìn)行的,在焊點(diǎn)清洗之后,緊接著進(jìn)行的工藝包括:鋅酸鹽處理,表面活性化處理,鎳(5mm)的淀積,金層的生長(zhǎng)。該項(xiàng)工藝為FraunhoferIZM與柏林技術(shù)大學(xué)合作開發(fā)。采用化學(xué)鍍鎳工藝的UBM穩(wěn)定性好,良率高,已被廣泛使用。
焊膏印刷需要使用小間距模板、能適應(yīng)微細(xì)間距要求的焊膏,以及優(yōu)化的印刷參數(shù)。焊膏供應(yīng)商已經(jīng)生產(chǎn)了幾種無鉛焊膏,包括SnAg3.5、SnAgBixx和SnCu0.9。Sn95.5Ag4Cu0.5是共晶鉛焊料的替代品,工藝良率成功通過了與SnPb的對(duì)比測(cè)試。滾刷速度、模板剝離和檢查條件將決定產(chǎn)量。使用厚度為80mm的模板,能實(shí)現(xiàn)~110mm的凸點(diǎn)高度。使用SnAgCu0.5焊膏時(shí),熔點(diǎn)溫度由183上升到217℃,相應(yīng)的回焊爐的溫度設(shè)置也需從~205上升到235℃,典型的回流焊環(huán)境是使用氮?dú)猓梢詫⒀趸档阶钚〕潭取?/div>

同時(shí),為了確保良好的工藝控制,必須對(duì)凸點(diǎn)制備中的晶圓實(shí)施自動(dòng)檢測(cè)。最新的研究顯示對(duì)凸點(diǎn)實(shí)施非100%的測(cè)試也能滿足對(duì)凸點(diǎn)質(zhì)量進(jìn)行控制的要求,這樣還能減少檢測(cè)時(shí)間。SnAgCu凸點(diǎn)的光學(xué)檢測(cè)由于其粗糙表面(與以前的SnPb焊膏的光亮表面相比)的影響實(shí),施起來不太容易,所以,這一步顯得更加關(guān)鍵,需要更加小心。拋開某些特例,成本核算表明,在FCOB的大批量生產(chǎn)中,用SnAgCu00.5替代SnPb的話,凸點(diǎn)制備工藝的成本可以達(dá)到低于每晶圓50美金。
迄今為止,倒裝芯片凸點(diǎn)技術(shù)仍然是技術(shù)的亮點(diǎn)。小間距芯片級(jí)封裝(>0.5mm間距)的出現(xiàn),使得使用鏤板印刷方法,可能替代固體植球方法。
可靠性問題
世界正在邁向無鉛電子時(shí)代,汽車電子也對(duì)高熔點(diǎn)焊料提出了需求,這一切推動(dòng)了產(chǎn)業(yè)對(duì)于新的焊料系統(tǒng)的選擇。對(duì)于新焊料系統(tǒng),關(guān)鍵之一就是可靠性。SnAgCu與SnPb37相比,二者的疲勞壽命和失效機(jī)制基本相同,實(shí)際應(yīng)用中,受熱歷程和焊點(diǎn)形狀決定疲勞壽命。研究等證明對(duì)于無電鍍鎳UBM,SnPb37和Sn95.5Ag3.8Cu0.7焊膏具有極佳的剪切性能。而且,底部填充料——PCB薄板上的倒裝芯片都需要它來保證可靠性——能減少焊點(diǎn)的大部分應(yīng)力,因而也就延長(zhǎng)了它的壽命。
倒裝芯片通常要使用兩次回流焊工藝,一次是在晶圓上球點(diǎn)的形成時(shí),另一次是在組裝的時(shí)候。Ni3Sn4是無電鍍鎳UBM上的SnPb焊料以及SnAgCu焊料形成的金屬互化物。經(jīng)過兩次回焊,金屬化后,Sn95.5Ag3.8Cu0.7的形態(tài)基本正常而且厚實(shí)。在較高的溫度下倒裝芯片的老化顯得十分關(guān)鍵。150和170℃時(shí)老化1000個(gè)小時(shí),SnPb及無鉛合金會(huì)隨著鎳的消耗,轉(zhuǎn)化成小于2mm的Ni3Sn4。對(duì)于Sn95.5Ag3.8Cu0.7,其鎳的耗散厚度大約是SnPb的兩倍。同樣的,對(duì)于Sn95.5Ag3.8Cu0.7,在170℃而不是150℃時(shí)老化,鎳的厚度消耗會(huì)增加4倍。
在150℃環(huán)境里保存2000小時(shí)后,對(duì)焊接凸點(diǎn)的剪切力測(cè)試的結(jié)果表明,Sn95.5Ag4Cu0.5的剪切力大于SnPb37。而且,對(duì)于Sn95.5Ag4Cu0.5,經(jīng)過高溫高濕(85℃和85%RH)保存,以及溫度循環(huán)(-40到150℃,1000cycles)之后,剪切力測(cè)試結(jié)果表明其可靠性比SnPb37稍好。對(duì)-40到125℃溫度循環(huán)后的倒裝芯片封裝進(jìn)行測(cè)試,結(jié)果顯示Sn95.5Ag3.8Cu0.7的效果要好于SnPb37。但是Sn95.5Ag4Cu0.5的可靠性不如常規(guī)的SnPb37(循環(huán)溫度-55到125℃,及-55到150℃)。上述兩種情形,填充底料的選擇,熔化物殘留的多少,以及實(shí)際結(jié)合高度將決定哪一種連接方式更好。這表明合金的選擇對(duì)于產(chǎn)品的可靠性僅僅是第二號(hào)的因素。在150℃的環(huán)境下,現(xiàn)在流行采用含錫焊料。而在更高的溫度環(huán)境下,共晶的金錫(Au80Sn20)焊料或充銀焊料能支持到200℃。
CSP的連接通常不使用任何填充底料,人們希望無鉛焊料的較大的機(jī)械彈力能夠有效提高其器件的壽命。然而,必須注意的是,失效模式可能在厚的金相處由疲勞開裂轉(zhuǎn)為碎裂,或者金屬焊點(diǎn)會(huì)從底材分離,因?yàn)槿彳浀腟nPb的蔓延導(dǎo)致固體凸點(diǎn)中產(chǎn)生的應(yīng)力無法得到釋放,只能通過彈性無鉛焊料傳遞到表面。
#p#副標(biāo)題#e#
超細(xì)間距焊膏和無鉛焊料
晶圓凸點(diǎn)制備需要的是6型焊膏,它能確保焊膏均勻,因而減小回流焊后凸點(diǎn)高度的改變。與PCB板上傳統(tǒng)的SMT焊錫膏印刷相比,超細(xì)間隙焊膏的細(xì)小焊點(diǎn),需要焊膏具有更高的粘性,對(duì)印刷性能、以及焊膏與模板的脫離有較大影響。增大的面積和體積比意味著焊料合金的氧化性增大,因而焊膏中氧化物含量較高,所以回流焊工藝需要氮?dú)獗Wo(hù)。相同的技術(shù)適用于SnPb37焊膏,也同樣適用于三元或四元小間距焊膏。

晶圓凸點(diǎn)的電鍍
鏤板印刷的適用間距極限是150-200mm。對(duì)于間距小,凸點(diǎn)尺寸范圍寬的高互連密度的情形,電鍍技術(shù)是首選。FraunhoferIZM采用了間距小于40mm的電鍍工藝。國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖研討會(huì)(ITRS)預(yù)測(cè),隨著倒裝芯片技術(shù)的發(fā)展,其凸點(diǎn)間距將呈現(xiàn)減小趨勢(shì),對(duì)于高I/O芯片和高能芯片,減小的趨勢(shì)是,從2002年的160mm減小到2010年的90mm,2016年更減小到70mm。
電鍍時(shí),凸點(diǎn)高度的均勻性要求在±1mm之內(nèi),這大大超過了鏤板印刷的均勻性指標(biāo)。這是由于模板材料厚度和激光切割的精度變化較大,而且在模板的開口處會(huì)有少量焊膏殘留,其典型的變化范圍在±7mm。
電鍍的成品率損失在ppm量級(jí)甚至更低。按照失效標(biāo)準(zhǔn)的定義,從凸點(diǎn)高度均勻性的角度來看,電鍍比鏤板印刷的損失要小。因此,對(duì)于高產(chǎn)量,大尺寸IC來說,電鍍是一項(xiàng)低成本技術(shù),而成品率的損失使得鏤板印刷失去了可比性。
電鍍時(shí)UBM要鍍上Ti/W/Cu,它們被均勻?yàn)R射在整個(gè)晶圓表面上,其后進(jìn)行光刻,形成凸點(diǎn)焊點(diǎn)。鍍上的附加層銅,會(huì)被回流焊和金屬化合物熱應(yīng)力部分地消耗掉。焊料金屬是以電化學(xué)的形式——基于甲基硫酸的方式——進(jìn)行淀積。電鍍加工時(shí)間的長(zhǎng)短取決于凸點(diǎn)的高度——與焊膏樓板印刷正好相反——即電鍍時(shí)間受限于較小凸點(diǎn)的高度。電鍍膜脫膜之后,以刻蝕方法去掉Ti/W/CuUBM。將晶圓上的淀積焊料回流,形成球形凸點(diǎn),然后進(jìn)行清洗,去掉有機(jī)殘留物。在FraunhoferIZM,人們完成了數(shù)種無鉛焊料的電鍍,并進(jìn)行了深入觀察。SnPb焊膏的最佳替代是SnAg,因?yàn)樗心承┨厥馓匦浴cy的電極勢(shì)差較高,因而比起錫來更容易淀積。所以,需要對(duì)銀離子添加超強(qiáng)配位劑以抑制銀的過早淀積。
然而,Sn-Pb的二元相圖表明,焊料成分的小的差異并不會(huì)給熔點(diǎn)造成多大影響。而對(duì)于SnAg,影響卻十分明顯。含銀3.5%的共晶中增加一點(diǎn)點(diǎn)銀的話,熔點(diǎn)就會(huì)極大地升高。此外,F(xiàn)raunhoferIZM的研究還表明,對(duì)含銀4%時(shí),大塊狀的Ag3Sn金屬化合物的生長(zhǎng)更快,給互連的可靠性帶來嚴(yán)重?fù)p害。對(duì)于共晶SnAg3.5電鍍,電鍍池和合金成分的控制,顯得及其重要。三元合金的電鍍加工更加困難,甚至不予考慮。另一方面,由于UBM的銅電鍍層會(huì)部分溶解于SnAg,因此回流焊凸點(diǎn)總會(huì)包含SnAgCu合金,而且會(huì)受到回流焊溫度的影響。與SnPb相比,使用SnAg時(shí)銅電鍍基材的消耗更多。因此,提供的電鍍銅必需有一定的厚度。如果再考慮到加工成本的話,SnPb電鍍和SnAg電鍍沒有本質(zhì)的差別。
總之,鏤板印刷的實(shí)現(xiàn)和電鍍晶圓凸點(diǎn)的制備代表了先進(jìn)互連技術(shù)無鉛化的現(xiàn)狀,也證明了無鉛化技術(shù)是切實(shí)可行的。
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標(biāo)簽: 電鍍技術(shù)
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