氫脆機理與高強抗氫鋼設計
論文摘要:
對于金屬結構材料來說,強度越高,氫脆越敏感。對于馬氏體強化的超高強度鋼來說,通常認為馬氏體對氫脆敏感。但從斷口形貌角度講,高氫濃度和低應力水平時氫脆沿原奧氏體晶界開裂,形成沿晶斷口,很少發現馬氏體開裂;中等濃度和中等應力值時氫脆為解理或準解理斷口,低氫濃度和高應力水平時則容易為韌窩斷口。構件在實際服役時的應力水平均在彈性范圍內,該應力水平的氫脆斷口一般沿原奧氏體晶界發生。這可認為是擴散氫在晶界或相界的富集形成連續氫分布造成的,如果通過合金設計和適當的冶煉、加工制備工藝,使得(1)材料在表面或者亞表面形成?獾淖璧膊悖ㄈ鏏l2O3),使氫不能或者減少進入,(2)進入的氫不容易在界面富集而形成連續氫分布,增加界面(減少晶粒尺寸),使進入一定總量的氫后界面濃度降低,(3)增加晶內彌散氫陷阱(彌散夾雜、位錯等),氫進入后與彌散氫陷阱結合,不能形成氫連續分布。通過這些設計,則有可能制備出抗氫脆超高強度材料。
報告人:喬利杰
個人簡介:

喬利杰教授
喬利杰,男,1957年7月出生,博士,現任北京科技大學材料科學與工程學院副院長,教授、博士生導師,材料失效研究所所長,北京科技大學腐蝕與防護中心主任。
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