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  2. SiC在離解氧環境中的氧化特征新發現!北理工&南航&中國空氣動力研究與發展中心最新研究成果發表Acta Materialia
    2025-02-10 11:04:48 作者:材料人 來源:材料人 分享至:

     

    01

    【導讀】


     

    SiC陶瓷以及碳化硅基復合材料,包括C/SiC和SiC/SiC復合材料,具有優異的抗氧化性能,是重要的熱防護材料。它們常作為非燒蝕型熱防護材料用于飛行器的鼻錐、前緣等熱端部件。這些部件在實際使用過程中,表面氣流通過激波壓縮或粘性阻滯減速,大量動能轉變成熱能,氣體溫度升高并發生能量激發、離解、電離、電子激發等一系列物理化學反應,出現“高溫氣體效應”。飛行器將面臨高溫、低壓、原子氧環境。而SiC等各種熱防護材料可以保護飛行器內部免受嚴苛的環境的影響,保證飛行器正常工作。如何獲得SiC材料在實際飛行過程中的應用極限條件,保證服役過程中的安全至關重要。

     

    02

    【成果掠影】



    北京理工大學王一光課題組、南京航空航天大學易敏課題組、中國空氣動力研究與發展中心王國林課題組利用高頻等離子體風洞產生離解氧環境,研究了碳化硅在該環境中的氧化行為。在實驗中,同時觀察到材料表面的二氧化硅的生成和氧化層的厚度減少。采用線性-拋物線曲線擬合實驗數據,以區分氧化層的生成和損失過程。通過分子動力學模擬和空氣動力學計算,發現SiC的氧化受離解氧擴散通過二氧化硅晶體結構中的通道擴散控制,而表面二氧化硅的損失是由于其升華控制。這些發現為確定飛行器高速飛行過程中的碳化硅材料的失效邊界奠定了理論基礎。

     

    03

    【數據概覽】



    1)在如下四個狀態開展氧化實驗

    表1、實驗狀態參數

    圖1、樣品表面氧化層厚度統計。

    圖2、整體厚度隨氧化時間的變化。

    3LAMMPS結果:(a) 模擬氧在SiO2中擴散的初始結構模型;(b) SiO2晶體;(c) O原子的擴散軌跡。

    表4、表面SiO2損失速率計算和實驗結果

    圖4、SiC在解離氧環境中的氧化機理:(a) SiC氧化過程;(b)原子氧在SiO2晶體中的擴散過程;(c) SiO2的損失過程;(d)氧化物厚度變化示意圖。

    圖5、圖形摘要。

     

    04

    【結論】



    實驗結果證明了SiC在離解氧環境中的氧化特征,并為探索SiC的失效邊界以及確定材料的使用極限提供理論和經驗支撐。在高頻等離子風洞產生的離解氧環境中,SiC表面同時發生氧化生成SiO2和SiO2的損失過程。SiC的氧化遵循拋物線規律,氧原子通過 SiO2 晶體內的通道擴散控制著氧化過程。而SiO2的升華損失則隨低壓和高溫呈線性關系。綜合考慮SiC的氧化和SiO2的損失過程,得出 SiC 的拋物線-線性氧化規律。SiC的氧化是原子氧擴散通過二氧化硅晶體中的通道控制。而SiO2的損失是通過升華生產氣相SiO2,擴散到邊界層中與原子氧反應生成SiO,而導致表面的氧化層不斷損失。在表面沒有發生主動氧化的條件下,材料表面的會逐漸達到穩定狀態,形成穩定的氧化層,避免材料的迅速失效。

    該研究成果以“Oxidation behavior of SiC in dissociated oxygen environments”為題,發表在《Acta Materialia》期刊上。其中,通訊作者為北京理工大學先進結構技術研究院任科助理教授與王一光教授,南京航空航天大學易敏教授,中國空氣動力研究與發展中心王國林研究員;第一作者為北京理工大學博士生陳左政。

    原文詳情

    Chen, L. Liu, J. Guo, C. Li, J. Yu, Y. Yin, S. Li, K. Ren, M. Yi, G. Wang, Y. Wang, Oxidation behavior of SiC in dissociated oxygen environments, Acta Materialia 286 (2025) 120745. https://doi.org/10.1016/j.actamat.2025.120745.

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