金屬納米線(NWs)因其獨特的電學(xué)、熱學(xué)和機械性能,成為未來高性能納米器件的重要組成部分。然而,當(dāng)前的納米線生長技術(shù)面臨著大規(guī)模生產(chǎn)的挑戰(zhàn),尤其是純金屬納米線的高密度生長難以實現(xiàn)。本文通過控制晶粒梯度誘導(dǎo)的應(yīng)力場,實現(xiàn)了高密度鋁(Al)納米線森林的生長,突破了傳統(tǒng)技術(shù)的瓶頸,為大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量金屬納米線提供了新方法。
原文鏈接:
https://www.science.org/doi/10.1126/science.adn9181
研究團(tuán)隊開發(fā)了一種利用聚焦離子束(FIB)誘導(dǎo)的應(yīng)力場控制方法,成功實現(xiàn)了Al納米線森林的高密度生長。通過FIB輻照誘導(dǎo)局部晶粒粗化,形成納米線生長的核,并在隨后的退火過程中推動原子遷移,使得納米線在指定位置大量生長。該方法顯著提高了納米線的生長密度,達(dá)到先前報道的10至100倍。
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FIB誘導(dǎo)應(yīng)力場:通過FIB輻照在薄膜表面產(chǎn)生局部應(yīng)力場,促進(jìn)原子遷移和納米線的垂直生長。
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高密度納米線森林:實現(xiàn)了高達(dá)180×10?/cm²的納米線生長密度,表面積覆蓋率達(dá)到0.51%,納米線長度可達(dá)210 µm。
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晶粒梯度效應(yīng):FIB誘導(dǎo)的晶粒梯度和雜質(zhì)的協(xié)同作用是實現(xiàn)納米線高密度生長的關(guān)鍵。
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單晶結(jié)構(gòu)和高純度:生長的Al納米線具有高質(zhì)量的單晶結(jié)構(gòu),且雜質(zhì)主要集中在納米線基底和粗化的晶粒周圍。
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