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  2. 突破:博威合金研發(fā)新型合金材料改善DDR運(yùn)行速度!
    2018-10-29 13:44:01 作者:本網(wǎng)整理 來源:材料科學(xué)與工程 分享至:

        DDR4與DDR3的區(qū)別


        DDR4內(nèi)存是新一代的內(nèi)存規(guī)格。2011年1月4日,三星電子完成史上第一條DDR4內(nèi)存。


        DDR4相比DDR3最大的區(qū)別有三點(diǎn):16bit預(yù)取機(jī)制(DDR3為8bit),同樣內(nèi)核頻率下理論速度是DDR3的兩倍;更可靠的傳輸規(guī)范,數(shù)據(jù)可靠性進(jìn)一步提升;工作電壓降為1.2V,更節(jié)能。


        同樣內(nèi)核頻率下DDR4理論速度是DDR3的兩倍,這又是因?yàn)槭裁茨兀?/span>


        首先,我們來看看DDR4的結(jié)構(gòu):


    1.jpg

    圖1 DDR連接器配對結(jié)構(gòu)


        DDR與主機(jī)實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)交換需要“金手指”與插槽的配合,這就是內(nèi)存的連接結(jié)構(gòu)。


        根據(jù)我們已知的DDR3內(nèi)存的默認(rèn)頻率為1333/1600MHz,而DDR4內(nèi)存的默認(rèn)頻率則達(dá)到了2133Mbps~4266Mbps之間。


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    圖2 DDR傳輸速率的代次更替及連接器主要結(jié)構(gòu)


        在工藝一定的情況下,頻率上升帶來的問題也很麻煩,主要是溫度變高、工作穩(wěn)定性降低、信號傳輸穩(wěn)定性變差等。對運(yùn)行中的筆記本進(jìn)行熱成像掃描如下:


    3.jpg

    圖3 筆記本主板熱成像溫度監(jiān)控


        1 常用于DDR插槽的銅合金牌號有黃銅H62、磷青銅C5191、銅鎳硅合金C7025等。


        表1 三種常用材料的性能對比


    4.png

     

        黃銅的強(qiáng)度較低,且長期保持一定大小的夾持力的能力較差。隨著工作溫度的升高,出現(xiàn)高溫下夾持端子軟化,接觸電阻增大產(chǎn)生更多的熱,加劇溫升的單惡化。磷青銅導(dǎo)電性能比黃銅還要低,本身產(chǎn)生較多的熱量,且熱傳導(dǎo)系數(shù)低。


        目前,博威合金研發(fā)的替代磷青銅的新型合金材料PW33520,在導(dǎo)電率方面進(jìn)行了提升,以改善DDR在信息傳輸工作中的發(fā)熱現(xiàn)象。


        2 以下兩張圖給出了寧波博威合金材料股份有限公司自主研發(fā)的高性能PW33520材料對磷青銅的性能對比


    5.png

    圖4 PW33520材料對磷青銅的性能對比


        PW33520導(dǎo)電率比磷青銅高出200%;


        100℃,50%Y0.2加載應(yīng)力條件下,抗應(yīng)力松弛能力優(yōu)秀。


    6.jpg

    圖5 PW33520材料掃面電鏡成像


        PW33520


    7.jpg

     

        PW33520新型合金采用了析出強(qiáng)化型加工工藝,在高溫條件下保持較好的彈性,穩(wěn)定的接觸結(jié)構(gòu),能夠廣泛應(yīng)用于各類接插件。


        目前主要應(yīng)用于LCD端子、電源插座、繼電器、電子連接器、通訊服務(wù)器等多個(gè)領(lǐng)域端子。


        結(jié)  論


        電子產(chǎn)品的輕薄便捷化成為主流趨勢,如何解決結(jié)構(gòu)壓縮帶來的散熱問題是制約電子產(chǎn)品性能提升的重要課題。銅是當(dāng)前市場上最好的散熱材料,保證接觸強(qiáng)度又能有效解決散熱的新型銅材無疑是提升產(chǎn)品性能的一條捷徑。


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    責(zé)任編輯:殷鵬飛

     

     


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