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  2. 一文讀懂超疏水涂層制備方法及優(yōu)缺點(diǎn)
    2025-03-06 14:33:12 作者:涂料驛站 來(lái)源:涂料驛站 分享至:

     

     

    一般來(lái)說(shuō),材料表面與水的靜態(tài)接觸角(CA)大于150°且滾動(dòng)角(SA)小于 10°時(shí),被定義為疏水表面。自然界中荷葉是最早被人類發(fā)現(xiàn)的超疏水材料,所以超疏水效應(yīng)又被稱為“荷葉效應(yīng)”。自“荷葉效應(yīng)”被發(fā)現(xiàn)以來(lái),超疏水性能受到了廣泛關(guān)注,由于超疏水材料具有優(yōu)異的防污、防腐、防附著以及自清潔和減少阻力等特性,在化工、食品、醫(yī)療、船舶等方面有著廣泛應(yīng)用。今天就和涂涂一起來(lái)學(xué)習(xí)一下超疏水涂層的制備方法吧~~

    制備原理

     

    表面浸潤(rùn)性是影響物體表面超疏水性能的重要因素。物體的表面浸潤(rùn)性會(huì)受到表面自由能的影響,同時(shí)還受到材料表面微觀粗糙結(jié)構(gòu)的影響。根據(jù)浸潤(rùn)性模型理論,制備超疏水涂層的原理主要分為以下兩種:

    (1)在微納米結(jié)構(gòu)粗糙表面上修飾低表面能物質(zhì);

    (2)在低表面能物質(zhì)表面構(gòu)造微納米結(jié)構(gòu)的粗糙表面。

     

    制備方法

     

    超疏水涂層的制備方法多種多樣,但基本上都是建立在兩種制備原理的基礎(chǔ)之上。

     

    1. 模板法

     

    模板法是指在具有一定粗糙結(jié)構(gòu)的模板材料上,將基體材料澆注到模板表面,待固化后去除模板,從而獲得具有模板結(jié)構(gòu)的超疏水涂層。模板法主要分為以聚二甲基硅氧烷(PDMS)等為模板的“軟模板法”和以金屬為模板的“硬模板法”。

     

    優(yōu)點(diǎn)

     

    1.能夠精確控制涂層表面的微觀結(jié)構(gòu)和形貌,制備出具有高度有序結(jié)構(gòu)的超疏水表面;
    2.操作簡(jiǎn)單、可重復(fù)使用、空間限制少、可有效避免納米顆粒團(tuán)聚。

     

    缺點(diǎn)

     

    1.受模板大小的限制,超疏水表面尺寸及規(guī)模受到限制;
    2.適用范圍相對(duì)較窄,對(duì)于一些復(fù)雜形狀的基底難以實(shí)現(xiàn)均勻涂覆;
    3.需要復(fù)雜的模板設(shè)計(jì)和處理過(guò)程,經(jīng)濟(jì)性偏低。

     

    2. 層層自組裝法

     

    層層自組裝法是利用分子間的相互作用力(如氫鍵、共價(jià)鍵、范德華力、配位鍵、靜電作用等),將不同物質(zhì)逐層交替沉積在基底表面上構(gòu)建微納粗糙結(jié)構(gòu)。

     

    優(yōu)點(diǎn)

     

    1.可以精準(zhǔn)調(diào)控材料厚度和涂層性能,具有良好的穩(wěn)定性和重復(fù)性;
    2.對(duì)基底的形狀、尺寸和材質(zhì)等要求較低,適用于各種基底材料,有較強(qiáng)的通用性;
    3.通常在常溫常壓下進(jìn)行,制備簡(jiǎn)單,成本低廉,對(duì)環(huán)境友好,能耗低。

     

    缺點(diǎn)

     

    1.對(duì)材料的結(jié)構(gòu)和性能要求較高,需要精確控制材料的化學(xué)組成和分子結(jié)構(gòu);
    2.制備周期長(zhǎng),大規(guī)模生產(chǎn)可能存在一定的困難;
    3.多層材料穩(wěn)定性不足,在特殊環(huán)境下會(huì)出現(xiàn)涂層失效的情況。

     

    3. 溶膠凝膠法

     

    溶膠凝膠法是指在液相條件下,將高化學(xué)活性的組分作為前驅(qū)體混合后進(jìn)行水解或縮合反應(yīng)獲得溶膠體系,再經(jīng)陳化形成凝膠,然后經(jīng)過(guò)干燥、固化等處理后,獲得具有三維網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)的超疏水涂層。

     

    優(yōu)點(diǎn)

     

    1.操作簡(jiǎn)單、條件溫和、成本低廉,對(duì)設(shè)備要求低,可大規(guī)模生產(chǎn);
    2.對(duì)基底要求相對(duì)較低,適用于多種基底材料;
    3.能夠在分子水平上實(shí)現(xiàn)均勻摻雜,可以均勻定量地?fù)饺胍恍┪⒘吭兀?br style="-webkit-tap-highlight-color: transparent; margin: 0px; padding: 0px; outline: 0px; max-width: 100%; box-sizing: border-box !important; overflow-wrap: break-word !important;" /> 4.制備出的涂層均勻性好,孔隙率較高,有利于形成超疏水表面的微納結(jié)構(gòu)。

     

    缺點(diǎn)

     

    1.涂層結(jié)構(gòu)的可控性比較差;
    2.制備周期較長(zhǎng)、成品穩(wěn)定性差;
    3.原料多為有機(jī)物,對(duì)人體有一定的危害性。

     

    4. 靜電紡絲法

     

    靜電紡絲法主要用于高分子材料的纖維化制備上,將聚合物溶液或熔體在強(qiáng)電場(chǎng)作用下產(chǎn)生靜電霧化,形成聚合物微小射流,最終落在基材上,形成微納米粗糙結(jié)構(gòu)超疏水涂層/膜的一種方法。

     

    優(yōu)點(diǎn)

     

    1.操作相對(duì)簡(jiǎn)單,可重復(fù)性好,適用于大規(guī)模生產(chǎn);
    2.能夠制備出具有高比表面積和孔隙率的纖維狀材料,有利于提高涂層的超疏水性;
    3.可以通過(guò)調(diào)整紡絲參數(shù)和溶液組成,精確控制纖維的直徑、形態(tài)和結(jié)構(gòu)。

     

    缺點(diǎn)

     

    1.對(duì)生產(chǎn)設(shè)備和材料的要求較高;
    2.制得的纖維膜的機(jī)械強(qiáng)度相對(duì)較低,可能需要進(jìn)行后續(xù)處理或與其他材料復(fù)合提高其機(jī)械性能;
    3.需要使用高壓電源,存在一定的安全隱患。

     

    5. 化學(xué)氣相沉積法

     

    化學(xué)氣相沉積法指在基體表面沉積特定化學(xué)物質(zhì)或化學(xué)基團(tuán),通過(guò)控制沉積時(shí)間和溫度等條件形成一層微納級(jí)結(jié)構(gòu)的薄膜來(lái)制備超疏水涂層的方法。

     

    優(yōu)點(diǎn)

     

    1.可以精確控制涂層的厚度、組成和結(jié)構(gòu);
    2.簡(jiǎn)單易操作,能在復(fù)雜形狀基底上沉積均勻涂層;
    3.涂層純度高、致密性好、與基底結(jié)合力強(qiáng),化學(xué)穩(wěn)定性和機(jī)械性能良好。

     

    缺點(diǎn)

     

    1.成本較高、反應(yīng)條件較為苛刻、設(shè)備要求高,限制了其廣泛應(yīng)用;
    2.反應(yīng)需高溫和等離子體等條件,能耗大,對(duì)基底材料有耐高溫限制;
    3.制備過(guò)程中產(chǎn)生廢氣需要處理。

     

    6. 刻蝕法

     

    刻蝕法可以通過(guò)化學(xué)刻蝕、等離子體刻蝕和激光刻蝕等多種方式來(lái)改善加工表面的粗糙度。

     

    6.1 化學(xué)刻蝕法

     

    化學(xué)刻蝕法是指利用強(qiáng)酸性或強(qiáng)堿性的蝕刻劑對(duì)金屬表面進(jìn)行選擇性蝕刻,從而獲得粗糙微納結(jié)構(gòu)的方法。

    優(yōu)點(diǎn):

    1.工藝簡(jiǎn)單、成本低廉,適合大規(guī)模生產(chǎn);
    2.可以精確控制基底表面微觀結(jié)構(gòu)的粗糙度和孔隙率等。

    缺點(diǎn):

    1.表面微觀結(jié)構(gòu)均勻性較差、重復(fù)性不好,不利于大規(guī)模生產(chǎn)中的質(zhì)量控制;

    2.反應(yīng)后的廢液需要專門處理,增加環(huán)保成本和處理難度。

     

    等離子體刻蝕法

     

    等離子體刻蝕法就是在基板表面蝕刻等離子體(Ar,N2或CF)以獲得具有二次微/納米結(jié)構(gòu)的超疏水涂層的方法。

    優(yōu)點(diǎn):

    1.可以精確基底表面微觀結(jié)構(gòu)的粗糙度和孔隙率等;
    2.能夠選擇性的刻蝕基底表面特定區(qū)域,適用范圍廣;
    3.無(wú)需使用化學(xué)試劑,對(duì)環(huán)境友好。

    缺點(diǎn):

    1.設(shè)備成本高、工藝復(fù)雜、制備周期相對(duì)較長(zhǎng);
    2.對(duì)基底材料會(huì)造成一定的損傷,影響基底材料的性能和使用壽命。

     

    激光刻蝕法

     

    激光刻蝕法是指利用高能激光束照射基材表面,使能量束照射的區(qū)域被熔化或熔融形成粗糙的微觀形貌。

    優(yōu)點(diǎn):

    1.通過(guò)調(diào)整激光束能量密度,在基材表面創(chuàng)造出形貌可控的微納粗糙結(jié)構(gòu);
    2.操作簡(jiǎn)單、精度高和粗糙結(jié)構(gòu)均勻可控。

    缺點(diǎn):

    1.制備具有多尺度結(jié)構(gòu)閉合形貌的微觀結(jié)構(gòu)時(shí)面臨挑戰(zhàn);
    2.設(shè)備相對(duì)昂貴,成本較高,不利于批量化加工制備。

     

    7. 電化學(xué)沉積法

    電化學(xué)沉積法是在電場(chǎng)作用下使溶液中的離子沉積到電極表面的過(guò)程。通過(guò)調(diào)整電解液的成分和電解條件,在基材表面形成具有特定形貌和結(jié)構(gòu)的沉積層,進(jìn)而制備出超疏水涂層。

    優(yōu)點(diǎn)

    1.工藝簡(jiǎn)單、成本低廉、易于大規(guī)模生產(chǎn);
    2.涂層結(jié)合力強(qiáng),具有良好的穩(wěn)定性和使用壽命;
    3.適用范圍廣,可制備復(fù)合涂層,滿足不同應(yīng)用場(chǎng)景的需求。

    缺點(diǎn)

    1.對(duì)非導(dǎo)電基底不適用;
    2.制備過(guò)程可能會(huì)產(chǎn)生氫氣等副產(chǎn)物,需要確保生產(chǎn)過(guò)程的安全性和環(huán)保性;
    3.后處理要求高,增加制備工藝的復(fù)雜性和成本

    8. 相分離法

     

    相分離法是將聚合物溶液中的液相移除,使聚合物成膜并得到多孔、粗糙結(jié)構(gòu)的方法。

     

    優(yōu)點(diǎn)

     

    1.工藝簡(jiǎn)單、成本低廉;
    2.涂層性能良好,可設(shè)計(jì)性強(qiáng);
    3.有利于獲得超疏水介孔薄膜。

     

    缺點(diǎn)

     

    1.微觀結(jié)構(gòu)控制難度大,表面能調(diào)節(jié)有限;
    2.對(duì)溶劑、溫度等制備條件較敏感;
    3.需要采取有效防護(hù)措施和廢氣處理手段,減少對(duì)環(huán)境的污染。

     

    9. 涂覆法

     

    涂覆法根據(jù)涂覆方法的不同可以分為噴涂法、浸涂法和旋涂法。

     

    9.1 噴涂法

     

    噴涂法是指將聚合物或天然生物質(zhì)材料和納米顆粒的混合溶液在一定壓力下從噴槍中噴出,形成霧狀黏附在基底表面,經(jīng)過(guò)固化和干燥獲后形成具有微/納米粗糙結(jié)構(gòu)的超疏水涂層。

    優(yōu)點(diǎn):

    1.工藝簡(jiǎn)單、成本低廉、適用于大面積表面制備;
    2.施工方便,對(duì)基材無(wú)特殊要求,且易于實(shí)現(xiàn)大規(guī)模的生產(chǎn)。

    缺點(diǎn):

    1.難以控制涂層的均勻性、耐磨性和耐久性,難以滿足特殊環(huán)境應(yīng)用需求;
    2.需要使用有機(jī)溶劑,溶劑揮發(fā)會(huì)造成資源浪費(fèi)且污染環(huán)境。

     

    9.2 浸涂法

     

    浸涂法是指將基材浸入配制好的涂料或懸浮液中一段時(shí)間,取出后通過(guò)干燥和固化制成涂層的一種方法。浸涂法一般用于織物的超疏水改性,但也有相關(guān)研究進(jìn)行木材和玻璃等基材的表面超疏水改性。

    優(yōu)點(diǎn):操作簡(jiǎn)單,效率高。

    缺點(diǎn):涂層厚度不均。

     

    9.3 旋涂法

     

    旋涂法是指在基材表面上先添加一定量的涂料或溶液,然后將整個(gè)基材和涂料作為整體系統(tǒng),以一定的速度進(jìn)行旋轉(zhuǎn),最終制備出的具有所需厚度涂層的一種方法。

    優(yōu)點(diǎn):涂層厚度均勻。

    缺點(diǎn):難以制備大尺寸面積。

     

    10. 其他方法

     

    除了上述主流的超疏水涂層的制備方法外,還有水熱法、納米二氧化硅填充法、電鍍法、直寫法、3D打印法、陽(yáng)極氧化法等。此類方法均存在優(yōu)缺點(diǎn),在制備的時(shí)候需結(jié)合實(shí)際情況,進(jìn)行選擇利用,也可將其中的方法進(jìn)行結(jié)合交叉使用。高質(zhì)、高效、普適性強(qiáng)、性價(jià)比高的涂層制備方法是今后的主要發(fā)展方向。

     

    寫在最后

    超疏水涂層材料可應(yīng)用范圍非常廣泛,應(yīng)用前景也非常廣闊,但是當(dāng)前來(lái)看推廣應(yīng)用的商業(yè)化產(chǎn)品并不是很普遍。如何實(shí)現(xiàn)低成本、高耐久性、性能穩(wěn)定的超疏水涂層制備,是未來(lái)的重點(diǎn)研究方向。

     

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