俄羅斯莫斯科工程物理學(xué)院（NRNUMEPhI）的科學(xué)家在《表面與涂層技術(shù)》雜志上發(fā)表的文章中稱，他們研制出能在熔融材料的蒸汽中產(chǎn)生強電流脈沖磁控放電的等離子發(fā)生器。新技術(shù)能更快地噴涂出高質(zhì)量的薄膜。

    磁控濺射是對使用節(jié)能涂層材料的建筑物玻璃進(jìn)行沉淀的唯一方法，可將能顯著提高性能的硬涂層噴射到切割工具上。在微電子學(xué)中，這種辦法被用于集成電路板的金屬化；在光學(xué)中，可用來生產(chǎn)濾光器；也可用來生產(chǎn)疏水涂層。新研制的等離子發(fā)生器由等離子接頭和電源組成，在特殊的磁控放電模式下工作，在這些模式下能發(fā)揮熔融材料的強烈蒸汽作用，以此形成涂料。

    該校等離子物理教研室研究員亞歷山大·杜馬爾金說：“在零件上的薄膜慢速增長與真空蒸發(fā)，長期以來一直都是磁控濺射技術(shù)的難題。新技術(shù)成功地將兩種技術(shù)的優(yōu)點合二為一。我們已經(jīng)學(xué)會在保證質(zhì)量情況下的高速濺射。”

    莫斯科工程物理學(xué)院等離子物理教研室的科學(xué)研究員安德烈·卡奇耶夫說：“設(shè)備的工業(yè)樣品和用于生產(chǎn)高質(zhì)量單獨涂層的模塊一樣。我們的潛在客戶是生產(chǎn)節(jié)能窗、現(xiàn)代能源組件以及各型材機械制造的企業(yè)。”

    在全球，磁控濺射法占了生產(chǎn)適用于電子、機械、建筑和其他領(lǐng)域的金屬及介電涂層市場的很大一部分份額。該方法是對被加工的零件涂上借助等離子、通過特別靶標(biāo)噴出的材料。目前，磁控濺射鍍膜是在高技術(shù)領(lǐng)域中生產(chǎn)薄膜最常見的方式。

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