與化學鍍Ni-P合金相比，化學鍍Ni-B合金具有更高的硬度、耐磨性、良好的釬焊性能以及低接觸電阻等特性，有著更廣闊的應用和發展前景。

    化學鍍Ni-B二元合金按使用還原劑的不同可分兩大類：以硼烷作還原劑及以硼氫化物作還原劑。前者還原性較弱，可在弱酸性和中性介質中使用，操作溫度低；后者在堿性溶液中使用較好，操作溫度高，可得到高含硼量的鍍層，有利于提高鍍層的硬度和耐磨性。目前，國外主要采用二乙胺基硼烷（DEAB）作為還原劑，但胺基硼烷目前國內尚無出售，所以國內主要采用硼氫化物為還原劑，使鍍液中鎳鹽的鎳離子還原成金屬鎳。以硼氫化物作為還原劑的鍍液最大缺點是只適用于高溫、強堿性溶液使用，在中性或微酸性溶液中很容易分解，使鍍液難以控制。
 

    本文選取硼氫化物作為還原劑，通過加入其他的絡合劑來降低施鍍溫度，提高了鍍液的穩定性，制備出基體/界面連續、均勻、平整、致密的Ni-B合金鍍層。利用光學顯微鏡觀察了鍍層的微觀形貌，借助X射線衍射儀分析了熱處理前后Ni-B鍍層相結構的變化，采用電化學極化曲線表征了熱處理前后鍍層的腐蝕過電位的變化，并分析了熱處理溫度對Ni-B合金鍍層耐蝕性的影響。

    選取經調質處理的45鋼為基體，試樣尺寸為30mm×7mm×5mm，工件施鍍流程：預磨試樣→堿性除油→水洗→酸洗→水洗→活化→水洗→化學復合鍍。化學鍍Ni-B合金鍍液組成及操作條件如下：氯化鎳30～50g/L，乙二胺10～30ml/L，氫氧化鈉30～60g/L，酒石酸鉀鈉30～60g/L，硼氫化鈉0.2～1.6g/L，穩定劑適量，pH>10，溫度45～55℃。復合鍍過程中需磁力攪拌，攪拌速度200r/min，恒溫水浴鍋加熱。為了得到相同厚度的鍍層，施鍍時間均為2h。將NaBH4添加量為0.9g/L的Ni-B鍍層試樣，分別在200、400和600℃氬氣保護下隨爐升溫，保溫1h。

    采用化學鍍技術，選取硼氫化鈉作為還原劑，通過加入酒石酸鉀鈉等可以制備出Ni-B鍍層。Ni-B鍍層與45鋼基體結合較好，界面連續、均勻、平整，表面形貌呈菜花狀的胞狀結構。NaBH4的添加量為0.9g/L時，Ni-B鍍層呈非晶態，Ni-B鍍層的耐蝕性最好。熱處理后，鍍層由非晶態向晶態轉變，鍍層的耐蝕性下降。經過400℃熱處理的Ni-B鍍層耐蝕性最差。

責任編輯：李玲珊

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