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重要突破！哈工大科研團隊攻克超黑涂層常溫制備技術瓶頸

2022-07-07 13:38:55 作者：材料基來源：材料基分享至：

近日，哈工大化工與化學學院吳曉宏教授團隊在超黑涂層技術領域取得重要突破，團隊攻克了超黑涂層常溫制備技術瓶頸，得到了一種朗伯特性顯著的高穩定超黑涂層。

經第三方權威機構檢測，寬光譜吸收高達99.8%，光線80°入射時總散射積分低至1.5%，可凝揮發物為0.00%，全面滿足多種基體、復雜形面、超大面積，實施工藝和空間極端環境應用需求性能與技術成熟度均優于國內外現役同類產品。

超黑涂層能吸收幾乎所有照射在其上的光，應用領域十分廣泛，絕大多數精密光學儀器都需要超黑涂層來屏蔽光學干擾，提升信噪比和探測能力。此外，超黑涂層能夠隱藏高低起伏的物體輪廓，可為設備或人員提供必要的保護。

20多年來，吳曉宏教授團隊潛心攻關、攻堅克難產學研用一體化研究不斷取得突破。針對工況條件“量身定制”出一系列滿足服役環境的超黑涂層，已交付遮光罩、擋光板、光闌筒、定標黑體等產品數千件，成功應用于我國風云、海洋、高分、環境、通信技術試驗等數十顆國家型號衛星和天啟、天雁、天拓等近百顆商業衛星，有效提升了我國航天器光學載荷的在軌探測能力和定位精度，為保證載荷全壽命周期高性能穩定運行提供了必要條件。

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