點蝕是一種典型的局部腐蝕形態(tài)，具有較大的隱蔽性和破壞性。點蝕的發(fā)生和分布具有隨機性，給評定點蝕敏感性的試驗帶來很大困難。點蝕研究具有重大的理論和應(yīng)用價值。從應(yīng)用角度出發(fā)，點蝕研究的目的有：評定材料發(fā)生點蝕的傾向；判斷已發(fā)生點蝕的設(shè)備的剩余使用壽命；了解各種因素對發(fā)生點蝕的影響；發(fā)展新的耐點蝕材料；尋求防止點蝕的途經(jīng)。從理論角度講，點蝕研究的目的在于搞清點蝕發(fā)生和發(fā)展的機制。點蝕敏感性的試驗評定方法可分為化學(xué)浸泡、電化學(xué)測試和現(xiàn)場試驗三類。

       點蝕又稱小孔腐蝕，是一種腐蝕集中在金屬表面很小范圍內(nèi)并深入到金屬內(nèi)部甚至穿孔的孔蝕形態(tài)。具有自鈍化特性的金屬，如不銹鋼、鋁和鋁合金等在含氯離子的介質(zhì)中，經(jīng)常發(fā)生點蝕。在許多含氯離子的介質(zhì)中碳鋼亦會出現(xiàn)點蝕現(xiàn)象。小孔腐蝕的蝕孔直徑一般只有數(shù)十微米，但深度等于或遠大于孔徑。孔口多數(shù)有腐蝕產(chǎn)物覆蓋，少數(shù)呈開放式（無腐蝕產(chǎn)物覆蓋）。蝕孔通常沿著重力方向發(fā)展，一塊平放在介質(zhì)中的金屬，蝕孔多在朝上的表面出現(xiàn)，很少在朝下的表面出現(xiàn)。
       點蝕產(chǎn)生的主要特征有下列三個方面：
      （1）點蝕多發(fā)生于表面生成鈍化膜的金屬或表面有陰極性鍍層的金屬上（如碳鋼表面鍍錫、銅、鎳）。當這些膜上某些點上發(fā)生破壞，破壞區(qū)域下的金屬基體與膜未破壞區(qū)域形成活化-鈍化腐蝕電池，鈍化表面為陰極而且面積比活化區(qū)大很多，腐蝕向深處發(fā)展形成小孔。
      （2）點蝕發(fā)生在含有特殊離子的介質(zhì)中，如不銹鋼對鹵素離子特別敏感，其作用順序為Cl^->Br^->I^-.這些陰離子在合金表面不均勻吸附導(dǎo)致膜的不均勻破壞。
      （3）點蝕通常在某一臨界電位以上發(fā)生，該電位稱作點蝕電位或擊破電位（Eb），又在某一電位以下停止，而這一電位稱作保護電位或再鈍化電位（Ep）。但是，也有許多體系可能找不到特定的點蝕電位，如點蝕發(fā)生在過鈍化電位區(qū)（鐵在ClO₄^-溶液中）、發(fā)生在活化/鈍化轉(zhuǎn)變區(qū)（鐵在硫酸溶液中）時，就難以確定點蝕電位。在一些情況下，例如含硫化物夾雜的低碳鋼在中性氯化物溶液中，點蝕也可能發(fā)生在活化電位區(qū)。