來自蒙特利爾大學（Université de Montréal）、蒙特利爾理工學院（Polytechnique Montréal）以及法國國家科研中心（Centre national de la recherche scientifique，CNRS）的研究人員組成的團隊首次成功防止了二維黑磷薄膜的氧化。開啟了在大量電子及光電子器件上應用其特殊性能的大門。

    黑磷：未來新技術關鍵成員。黑磷是磷的一種同素異形體，顯示出于石墨類似的層狀結構，最近已開始引起物理學家和材料學家的關注。有可能獲得單原子層，研究人員稱之為2D磷。作為廣被傳誦的石墨烯的表親，2D磷在器件設計上匯集了兩個非常搶手的性能。

    （1）2D磷是一種半導體材料，可為晶體管和處理器提供必需的特性。2D磷具有高流動性，據估計可形成高性能、低成本電子器件基礎。

    （2）甚至更加鮮明的特性：它與光的相互作用取決于原子層數目。單原子層發射紅光，更厚的樣品將發射紅外光。這種差異使其有可能用于制造一大系列的光電子器件，例如激光器或者探測器，電磁頻譜中的戰略組成。

    （3）迄今為止，防止單原子層2D磷降解是該主要的問題，使得2D磷性能的研究進展緩慢：大氣條件下，這種材料薄層將發生降解，嚴重影響其未來的工業應用，即使其潛力巨大。

    該研究團隊提出了重要步驟，逐步確定降解的物理機制，并逐步確定導致薄膜氧化的關鍵要素。

    （1）已經證實了大氣環境中存在氧氣、水和光，導致了2D磷的氧化。

    （2）研究人員開發出了一種有效過程來制備這些非常脆弱的單原子層，并保持其完整。

    （3）研究結果將有助于世界科學界朝著發展高性能微處理器、激光、太陽能電池甚至更多的新納米技術的目標，發展2D磷的特殊性能。



 

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