{首页主词},&

涂層新動向

2018-08-14 12:29:46 作者：星海聽濤來源：表面工程技術分享至：

涂層裝備的的發展是伴隨著用戶對涂層功能而發展的，目前使用較多的 PVD涂層技術主要有兩種：磁控濺射和多弧鍍膜。

其中采用多弧鍍技術制備涂層時，設備的結構比較簡單，便于操作，通過電焊機提供電源，使離子蒸發源工作，與電焊具有類似的引弧過程。在工作壓強達到一定值時，引弧針與靶材通過反復的接觸與斷開，使氣體產生放電現象。多弧鍍膜技術主要是利用弧斑的不斷移動，表面上形成連續的熔池，從而使靶材蒸發成氣體，最后再沉積在基體表面上得到不同種類的薄膜。相比之下，多弧鍍技術能夠高效率地利用靶材，使金屬充分地進行離子化，最終得到質量較高的薄膜，并且膜膜基間具有較強的結合力。除此之外，采用多弧鍍技術得到的涂層顏色比較均勻穩定，即使是在不同的基體上鍍 TiN涂層時，薄膜的顏色也也都比較穩定，均為金黃色。

諸多的優點都是磁控濺射技術不能相比的，但是多弧鍍也存在一些缺點，比如使用傳統統的直流電源時，在涂層溫度較低的情況下，當沉積到 0.3 μm厚的的薄膜時，此時，反射率接近沉積率，因此不容易再繼續沉積薄膜，這種情況下，薄膜表面開始逐漸變脆，質量下降。另外，由于金屬靶材都是先熔熔化后蒸發的，所以沉積顆粒較大，薄膜比較疏松，密度較低，與磁控濺射技術相比，涂層的自潤滑性相對較差。由此可見，多弧鍍技術與磁控濺射技術術均有各自的優缺點。為了使它們能夠彼此互補，最大限度地發揮各自的優勢，出現了多弧鍍與磁控濺射鍍相結合的涂層技術，將兩種技術合而為一，先采用多弧鍍進行打底之后，再利用磁控濺射技術制備涂層，最后再使用多弧鍍技術，利用其優點獲得得顏色穩定的的薄膜。這種方法結合了多弧鍍和和磁控濺射技術各自的優點，能夠獲得得高質量的表面涂層，是一種比較新穎的涂層技術。