微弧氧化膜（MAO）又稱等離子體氧化（PEO），它突破傳統陽極氧化技術的限制，將工作電壓引入到幾百伏的高壓放電區，能在鎂合金表面原位生長一層陶瓷結構的氧化膜，該膜與基體結合力強，厚度可控，可有效改善鎂合金的耐蝕性、耐磨性、抗熱沖擊性及絕緣性，在航天、航空、機械及電子等領域有廣泛的應用前景，已成為鎂合金表面處理研究的熱點。

　　微弧氧化膜的生長是一個“成膜-擊穿-融化-燒結-再成膜”的多次循環過程，導致膜中存在大量微孔無法避免。這些微孔可能成為腐蝕介質進入鎂基體的通道，影響氧化膜的耐蝕性。針對上述問題，本課題組采用新型的復合電解液及適合的電參數獲得了自封孔型微弧氧化膜，該膜的表面和截面形貌如圖1所示。膜表面存在的較大微孔已被填封，且該膜與基體的結合良好。自封孔微弧氧化膜的阻抗值比傳統微弧氧化膜的提高了三個數量級（見圖2），中性鹽霧試驗2000小時未見腐蝕。

　　該技術已經在某些產品上批量應用，相關研究成果發表在Corrosion Science 53 (2011) 3845-3852, Surface & Coatings Technology 206 (2011) 455-463, Materials and Corrosion 2011(62)1124-1132。