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  2. 多弧離子鍍設備中出現液滴的常見原因
    2017-01-23 17:09:15 作者:本網整理 來源:微弧氧化 分享至:

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        常見的多弧離子鍍設備使用過程中,陰極電弧會從耀眼的弧斑內發射出常被稱為液滴的大顆粒。以金屬陰極為例,液滴來源于弧斑內存在熔池。這些液滴最終在鍍層表面呈現為微米尺度的圓形凸起,影響鍍層的表面粗糙度。

        液滴(或大顆粒)形成的原因主要有以下幾個方面:

        1、 陰極弧斑溫度較高,一般超過金屬熔點,形成微熔池并使金屬強烈氣化,金屬蒸汽流沖向空間時帶出液滴飛濺。

        2、 在陰極位降區部分金屬離子返回陰極弧斑區,在高動能離子轟擊下產生高壓,使熔融金屬以微粒形式飛濺離開陰極。

        3、 陰極表面含有氣泡,或是多孔材料,有封閉的孔隙。在高溫下,氣體突然膨脹產生高壓,導致附近微熔池的材料和表面密封層材料碎裂和飛濺。

        4、 局部高電場作用使結合較弱的材料崩塌飛離。

        國外Hauzer公司(見下方視頻)通過調整磁場排布方式,控制弧斑運行軌跡,使靶面均勻燒蝕,減少液滴(或大顆粒)的發射。

     

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    責任編輯:龐雪潔


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